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DIC 2022平行論壇丨上海微電子：高分辨率小Mask系列投影曝光機

2022-11-08 11:39:09

伴隨著云卷屏、三折屏等全新概念機的問世，新型顯示產(chǎn)業(yè)已步入全新的發(fā)展階段，LCD、OLED、Mini/Micro-LED、硅基OLED等顯示技術(shù)競相綻放。在萬物互聯(lián)的時代，顯示技術(shù)作為重要角色賦能更多的終端產(chǎn)品和新興應(yīng)用場景。每一個終端產(chǎn)品規(guī)模化上市的背后都是其相關(guān)零部件及供應(yīng)鏈的更迭換代，凝結(jié)了無數(shù)科研人和產(chǎn)業(yè)人的智慧與心血。

為便捷顯示同仁零距離接觸前沿顯示創(chuàng)新科技成果，了解顯示未來發(fā)展趨勢，DIC全球先鋒顯示科技發(fā)布會將于2022年11月23-24日在蘇州國際博覽中心如約而至，同期舉辦DIC EXPO中國國際顯示技術(shù)與應(yīng)用創(chuàng)新展，精心打造全球顯示科技首發(fā)和創(chuàng)新產(chǎn)品體驗平臺，為到場觀眾帶來一場沉浸式的未來顯示黑科技視聽盛宴！

演講嘉賓

演講議題及摘要

演講議題：

高分辨率小Mask系列投影曝光機

演講摘要：

SMEE平板顯示領(lǐng)域小掩模系列投影曝光機，可滿足新型顯示工藝制程中各種玻璃基板的精密曝光需求，同時能節(jié)省產(chǎn)線掩膜費用。G4.5/G5/G6曝光機均采用2X放大倍率的高分辨率曝光系統(tǒng)，滿足各種復(fù)雜工藝下的高精密曝光需求。新推出的G5曝光機，滿足傳統(tǒng)5代廠房的放置需求，和曝光精度提升需求。

G6/G5曝光機采用完全自主研制的雙成像系統(tǒng)，配合獨特的成像系統(tǒng)間匹配和拼接曝光技術(shù)，實現(xiàn)產(chǎn)線各種尺寸屏幕的量產(chǎn)制造需求。本系列產(chǎn)品可配備SMEE長/短寸量測設(shè)備，形成為曝光+量測一體化解決方案。

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