展商精選丨大連華邦，專注氣體純化設(shè)備制造及超純氣體供應(yīng)
2023-05-08 11:15:02
公司簡(jiǎn)介
大連華邦化學(xué)有限公司（展位號(hào)：特4C30）
2013年由多位催化與氣體純化專家與聯(lián)合成立的國(guó)家高新技術(shù)企業(yè)，注冊(cè)資本5000萬(wàn)元。華邦化學(xué)與多家科研單位建立了科研合作，主要從事超純氣體純化技術(shù)的研制與開(kāi)發(fā)。
大連華邦化學(xué)有限公司（HPC）超純技術(shù)團(tuán)隊(duì)從20世紀(jì)60年代在國(guó)內(nèi)率先從事超純氣體分析和制備領(lǐng)域的研究，擁有催化劑、吸附劑、Getter等氣體純化材料的核心技術(shù)及研發(fā)能力，掌握核心工藝，并將應(yīng)用在所生產(chǎn)的的純化器之中。
推薦產(chǎn)品
大連華邦擁有各類9N氣體純化器。
產(chǎn)品特點(diǎn)：
1、采用催化，吸附、Getter等技術(shù)聯(lián)用，保證氣體純化指標(biāo)。
2、擁有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)核心催化劑，穩(wěn)定性強(qiáng)，脫除深度高。
3、穩(wěn)定性強(qiáng)，全自動(dòng)運(yùn)行維護(hù)量少。
4、抗意外能力強(qiáng)，短時(shí)間斷水、斷電不影響產(chǎn)氣指標(biāo)。
5、再生周期長(zhǎng)，可實(shí)現(xiàn)不間斷產(chǎn)氣，在線維修。
PH8系列——氮?dú)饧兓?/span>
單項(xiàng)雜質(zhì)脫除均<1ppb
設(shè)備簡(jiǎn)介：
1、半導(dǎo)體、LED/激光、太陽(yáng)能光伏行業(yè)：器件制備工藝中外延、擴(kuò)散、MOCVD、離子注入、等離子干刻、光刻、退火、搭接、燒結(jié)等工序設(shè)備所需的N?、H?、Ar、NH?等氣體進(jìn)行純化。
2、光纖行業(yè)：對(duì)保護(hù)氮、氦氣進(jìn)行終端純化。
3、氣體行業(yè)：對(duì)氣源氣體進(jìn)行純化。
4、冷軋行業(yè)：對(duì)保護(hù)氮?dú)膺M(jìn)行純化。
PH9——氮?dú)饧兓?/span>
單項(xiàng)雜質(zhì)脫除均<1ppb
設(shè)備簡(jiǎn)介：
1、氣體首先通過(guò)高溫催化氧化工序，將氣體中的CH?（包括H?、CO）與O?反應(yīng)轉(zhuǎn)化為H?O和CO?。
典型應(yīng)用：
1、半導(dǎo)體、LED、激光、太陽(yáng)能光伏行業(yè)：器件制備工藝中外延、擴(kuò)散、MOCVD、離子注入等離子干刻、光刻、退火、搭接、燒結(jié)等工序中設(shè)備所需的超純氮?dú)饨K端純化。
2、光纖行業(yè)：保護(hù)氮、氦氣的終端純化。
PH7——?dú)錃饧兓?/span>
單項(xiàng)雜質(zhì)脫除均<1ppb
典型應(yīng)用：
1、用于半導(dǎo)體、LED/激光、太陽(yáng)能光伏行業(yè)：在器件制備工藝中晶體生長(zhǎng)、熱氧化、外延、擴(kuò)散、多晶硅、鎢化、離子注入、載流、燒結(jié)等工藝所需超純氫氣、氬氣體終端純化。
PH6系列——氧氣純化器
單項(xiàng)雜質(zhì)脫除均<1ppb
典型應(yīng)用：
1、半導(dǎo)體、LED、激光、太陽(yáng)能光伏行業(yè)：器件制備工藝中熱氧化、擴(kuò)散、MOCVD、等離子干刻等工序所需的超純O?終端純化。
2、光纖行業(yè)：光導(dǎo)纖維所需O?的純化。
PH5系列——?dú)鍤狻⒑饧兓?/span>
單項(xiàng)雜質(zhì)脫除均<1ppb
1、PH5-H：通過(guò)吸附工序，脫除氣體中的O?、H?O、CO?等雜質(zhì)，通過(guò)吸氣柱脫除N?、CH?。
2、PH5-G：氣體通過(guò)高溫狀態(tài)下的吸氣柱，可深度吸收脫除氣體中的O?、H?O、CO?、CO、H?、CH?、N?等雜質(zhì)。吸氣柱吸附飽和后，整體更換。
典型應(yīng)用：
1、用于半導(dǎo)體、LED/激光、太陽(yáng)能光伏行業(yè)：在器件制備工藝中晶體生長(zhǎng)、熱氧化、外延、擴(kuò)散、多晶硅、鎢化、離子注入、載流、燒結(jié)等工藝所需超純氫氣、氬氣體終端純化。
PH21系列——氨氣純化器
單項(xiàng)雜質(zhì)脫除均<1ppb
工藝介紹：
1、PH21氨氣純化器通過(guò)吸附工序，采用雙吸附容器，深度脫除工藝氣體中的O?、H?O、CO?、NMHC，純化再生模式交替進(jìn)行，提供對(duì)工藝氣的連續(xù)純化。
2、PH21系列氨氣純化系統(tǒng)通過(guò)現(xiàn)場(chǎng)原位再生和先進(jìn)的技術(shù)，以高可靠性。
PH22系列——XCDA純化器
單項(xiàng)雜質(zhì)脫除均<1ppb
工藝介紹：
1、采用HPC特有純化材料，通過(guò)吸附工序，深度脫除氣體中的H?O、CO?、揮發(fā)性酸VA、揮發(fā)性堿VB、耐熔化合物RC、總有機(jī)碳TOC等雜質(zhì)。多個(gè)吸附器交替吸附、再生，實(shí)現(xiàn)對(duì)原料氣體的連續(xù)純化。
PH32/33系列——二氧化碳純化器
單項(xiàng)雜質(zhì)脫除均<1ppb
工藝介紹：
1、PH32系列采用HPC特有純化材料，通過(guò)吸附工序，深度脫除氣體中的。上表中雜質(zhì)CH?、O?、H?O、H?、CO、揮發(fā)性酸VA、揮發(fā)性堿VB、耐熔化合物RC、可冷凝有機(jī)物Corg、不凝有機(jī)物Ncorg等雜質(zhì)。多個(gè)吸附器交替吸附、再生，實(shí)現(xiàn)對(duì)原料氣體的連續(xù)純化。
2、PH32系列獨(dú)立氣體純化系統(tǒng)通過(guò)現(xiàn)場(chǎng)原位再生和先進(jìn)的技術(shù)，以高可靠性、低成本及高性能，有效的脫除CO?中的污染雜質(zhì)，滿足客戶現(xiàn)場(chǎng)需求。
3、PH33系列氣體首先通過(guò)高溫催化氧化工序，將氣體中的CH?、還原性雜質(zhì)與O?反應(yīng)轉(zhuǎn)化為H?O和CO?。
4、氣體通過(guò)多柱吸附工序深度脫除氣體中的CH?、O?、H?O、H?、CO、揮發(fā)性酸VA、揮發(fā)性堿VB、耐熔化合物RC、可冷凝有機(jī)物Corg、不凝有機(jī)物Ncorg等雜質(zhì)。
5、吸附柱飽和后可通還原性氣體加熱再生，反復(fù)使用。
Q9系列——POU純化器
典型應(yīng)用：
1、電子行業(yè)生產(chǎn)線及研發(fā)過(guò)程：氣體純化。
2、化工研究:烴類、N?、H?純化。
3、分析：色譜載氣純化、測(cè)氧儀、露點(diǎn)儀的零點(diǎn)較對(duì)。
